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光刻機
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光刻機和刻蝕機哪個更重要
光刻機和刻蝕機哪個更重要
光刻機和刻蝕機在芯片制造過程中都扮演著非常重要的角色，它們各自承擔著不同的任務，且互為補充。光刻機主要用于將掩膜板上的圖案轉移到硅片上，通過優(yōu)化光刻機的光學系統(tǒng)和控制算法，可以實現(xiàn)更高的分辨率和更精準的圖案轉移。光刻機的作用是將設計好的芯片圖案投射到光敏感的化學物質上，形成所需的圖案結構，從而制作出芯片中的電路。而刻蝕機則主要用于去除芯片......
光刻機
2024-05-14
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中國14納米芯片光刻機
中國14納米芯片光刻機
中國在14納米芯片光刻機領域已經(jīng)取得了一定的進展。據(jù)報道，哈工大實驗團隊在國產(chǎn)DUV光刻機的研發(fā)領域取得了重大突破，成功完成了核心部件的自行建造，使得14納米的光刻機有望在近期內進行量產(chǎn)。這一成果體現(xiàn)了中國在芯片制造技術研發(fā)方面的實力和潛力。光刻機是芯片制造過程中的關鍵設備之一，其精度直接影響到芯片制造的工藝水平和芯片性能。因此，擁有自主......
14納米...
2024-02-23
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上海微電子28nm光刻機
上海微電子28nm光刻機
上海微電子已成功研制出28nm光刻機，這是國內唯一一家掌握光刻機技術的企業(yè)所取得的重大突破。光刻機是制造芯片的核心設備之一，其精度和穩(wěn)定性對于芯片制造的質量和效率具有決定性的影響。28nm光刻機的研制成功，意味著中國芯片制造行業(yè)在核心技術方面取得了重要進展，也為中國芯片產(chǎn)業(yè)的自主發(fā)展提供了有力支撐。光刻機是一種利用光學原理進行高精度微納加......
上海微電... 28nm...
2024-02-23
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ASML下一代高精準度EUV光刻機售價將高達3億美元
ASML下一代高精準度EUV光刻機售價將高達3億美元
ASML（阿斯麥）下一代高精準度EUV（極紫外）光刻機的售價確實預計將達到一個相當高的水平，但具體售價可能會受到多種因素的影響，包括生產(chǎn)成本、市場需求、技術先進性以及市場競爭態(tài)勢等。根據(jù)公開發(fā)布的信息，ASML的下一代高精準度EUV光刻機，如EXE: 5000型號，其數(shù)值孔徑為0.55，可用于2nm節(jié)點以下芯片制造，如1.4nm、1nm等......
EUV光... 臺積電 制程節(jié)點
2021-12-24
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ASML下一代EUV光刻機將提前量產(chǎn)：售價3億美元，Intel首發(fā)采用
ASML下一代EUV光刻機將提前量產(chǎn)：售價3億美元，Intel首發(fā)采用
關于ASML下一代EUV光刻機將提前量產(chǎn)，售價為3億美元，并由Intel首發(fā)采用的信息，可以歸納如下：一、ASML下一代EUV光刻機概述ASML（阿斯麥）作為全球光刻機技術的領軍企業(yè)，其下一代EUV（極紫外）光刻機備受業(yè)界關注。這款光刻機采用了高數(shù)值孔徑（High NA）技術，能夠實現(xiàn)更高的光刻分辨率，進而推動芯片制造工藝的進一步升級。二......
EUV光... ASML 2D材料
2021-12-15
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英諾賽科成功導入ASML光刻機，進一步提升產(chǎn)能和產(chǎn)線良率
英諾賽科成功導入ASML光刻機，進一步提升產(chǎn)能和產(chǎn)線良率
英諾賽科（珠海）科技有限公司成功導入ASML光刻機，這一舉措對其進一步提升產(chǎn)能和產(chǎn)線良率產(chǎn)生了顯著影響。以下是關于此事件的詳細分析：一、事件背景時間：2021年12月8日，英諾賽科為ASML光刻機成功導入8英寸硅基氮化鎵量產(chǎn)線舉辦了慶典。合作方：英諾賽科與全球芯片制造設備領導廠商ASML達成合作，引入了其先進的光刻機設備。二、ASML光刻......
硅基氮化... ASML... 碳化硅(...
2021-12-10
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國產(chǎn)“28nm光刻機”又跳票？到底卡在了哪里？
國產(chǎn)“28nm光刻機”又跳票？到底卡在了哪里？
關于國產(chǎn)“28nm光刻機”是否又跳票以及具體卡在了哪里的問題，可以從以下幾個方面進行分析：一、國產(chǎn)28nm光刻機的進展與挑戰(zhàn)1. 進展概述國產(chǎn)光刻機技術一直在不斷發(fā)展和進步。近年來，國內企業(yè)如上海微電子等在光刻機領域取得了顯著成就，已經(jīng)能夠量產(chǎn)90nm分辨率的ArF光刻機，并有望在28nm分辨率的光刻機上取得突破。然而，關于國產(chǎn)“28nm......
28nm... 上海微電...
2021-12-07
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國內光刻機設備現(xiàn)狀
國內光刻機設備現(xiàn)狀
國內光刻機設備現(xiàn)狀可以從技術水平、市場份額、企業(yè)競爭力以及面臨的挑戰(zhàn)等方面來進行分析。一、技術水平國內光刻機技術在近年來取得了顯著進步，但與國際領先水平相比仍存在一定差距。目前，國內光刻機的技術水平主要集中在90nm至180nm的精度范圍內，而世界領先水平已經(jīng)達到了5nm甚至3nm。不過，值得注意的是，國內企業(yè)在后道光刻機領域已經(jīng)取得了重......
國內光刻... 光刻機設...
2021-12-07
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國產(chǎn)光刻機背后的希望
國產(chǎn)光刻機背后的希望
國產(chǎn)光刻機背后的希望主要體現(xiàn)在以下幾個方面：一、政策支持與資金投入政策支持：中國政府高度重視半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，包括光刻機在內的關鍵設備研發(fā)得到了國家政策的大力支持。政府通過制定一系列政策措施，如稅收優(yōu)惠、資金支持、人才引進等，為國產(chǎn)光刻機的研發(fā)提供了有力保障。資金投入：隨著國家對半導體產(chǎn)業(yè)的投入不斷增加，國產(chǎn)光刻機的研發(fā)資金也得到了顯著提......
國產(chǎn)光刻... EUV光...
2021-12-07
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“02專項“為何非要選擇28納米光刻機這么一個數(shù)字？
“02專項“為何非要選擇28納米光刻機這么一個數(shù)字？
“02專項”選擇28納米光刻機作為目標，并非隨意之舉，而是基于多方面的考量和技術限制。以下是對此選擇的詳細分析：一、技術可行性最佳分辨率：28納米是193nm ArF激光干法光刻結合double patterning技術所能達到的最佳分辨率。這種技術組合在現(xiàn)有條件下具有相對較高的可行性。單次光刻的分辨率受限于光源波長、透鏡組數(shù)值孔徑以及曝......
28nm... 28納米...
2021-12-07
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28nm光刻機卡住“02專項”——對于督工部分觀點的批判（睡前消息353期）
28nm光刻機卡住“02專項”——對于督工部分觀點的批判（睡前消息353期）
關于“28nm光刻機卡住‘02專項’——對于督工部分觀點的批判（睡前消息353期）”這一話題，首先需要明確的是，督工（即馬督工）的觀點可能基于其個人理解和對當前技術、市場及政策環(huán)境的分析，但并不一定完全準確或全面。以下是對督工部分觀點可能存在的批判性思考：一、對技術難度的理解督工觀點： 可能認為28nm光刻機的研發(fā)難度過大，導致無法按期通......
28nm...
2021-12-07
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不用EUV光刻機也能造5nm芯片？鎧俠攜手NDP與佳能力推NIL技術
不用EUV光刻機也能造5nm芯片？鎧俠攜手NDP與佳能力推NIL技術
是的，不用EUV光刻機也能造5nm芯片，這得益于鎧俠攜手NDP（大日本印刷株式會社）與佳能共同力推的NIL（納米壓印微影）技術。技術背景與優(yōu)勢EUV光刻機問題：在半導體制程技術進入5nm節(jié)點后，EUV光刻機成為了不可或缺的關鍵設備。然而，EUV光刻機造價高昂（每臺價格超過1億美元），且僅荷蘭ASML一家能夠生產(chǎn)供應，產(chǎn)能有限，導致芯片生產(chǎn)......
EUV光... 納米壓印... 手機應用...
2021-10-26
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光刻機龍頭 ASML 第三季度業(yè)績激增近 70%，EUV 光刻業(yè)務出貨量刷新紀錄
光刻機龍頭 ASML 第三季度業(yè)績激增近 70%，EUV 光刻業(yè)務出貨量刷新紀錄...
光刻機龍頭ASML（阿斯麥）在第三季度的業(yè)績確實實現(xiàn)了顯著增長，并且EUV（極紫外光）光刻業(yè)務的出貨量也刷新了紀錄。以下是對該情況的詳細分析：一、第三季度業(yè)績激增近70%凈利潤增長：ASML公布的2021年第三季度業(yè)績顯示，其凈利潤達到了17億歐元，與上一季度相比增長了67.6%，這是一個非常顯著的增幅。凈銷售額增長：同時，該季度的凈銷售......
光刻機 邏輯節(jié)點 光刻系統(tǒng)
2021-10-22
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報告：半導體設備國產(chǎn)化正加速，今年預計將建成 8 座高產(chǎn)能晶圓廠
報告：半導體設備國產(chǎn)化正加速，今年預計將建成 8 座高產(chǎn)能晶圓廠
關于“半導體設備國產(chǎn)化正加速，今年預計將建成8座高產(chǎn)能晶圓廠”的報告，我們可以從以下幾個方面進行詳細分析：一、半導體設備國產(chǎn)化加速的背景全球趨勢：近年來，全球半導體產(chǎn)業(yè)持續(xù)向中國大陸轉移，這為中國半導體設備國產(chǎn)化提供了良好的外部環(huán)境。隨著技術的不斷進步和市場的不斷擴大，國內半導體設備廠商在各自優(yōu)勢環(huán)節(jié)逐漸取得突破。政策支持：中國政府高度重......
熱處理設... 光刻機 清洗設備
2021-09-26
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半導體分析機構：阿斯麥 ASML 是英特爾追上臺積電的“救世主”
半導體分析機構：阿斯麥 ASML 是英特爾追上臺積電的“救世主”
半導體分析機構認為阿斯麥（ASML）對于英特爾追上臺積電具有關鍵作用，這一觀點主要基于以下幾個方面：一、技術領先性的重要性1. EUV技術的領先優(yōu)勢：臺積電在EUV（極紫外光刻）工具數(shù)量和經(jīng)驗方面遙遙領先于英特爾。EUV技術是先進技術節(jié)點的關鍵，對于提升芯片制造精度和性能至關重要。當年ASML在EUV技術拓展上遇到困難時，蘋果通過向臺積電......
光刻機 三星 晶體管
2021-09-14
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阿斯麥新一代 EUV 光刻機開始制造：造價 1.5 億美元，公共汽車大小
阿斯麥新一代 EUV 光刻機開始制造：造價 1.5 億美元，公共汽車大小
　　阿斯麥（ASML）是全球領先的半導體設備制造商，其EUV（極紫外光）光刻機在芯片制造中扮演著至關重要的角色。近日，阿斯麥宣布已經(jīng)開始制造新一代的EUV光刻機，這款機器的造價高達1.5億美元，體積相當于一輛公共汽車?！　∵@款新一代的EUV光刻機預計將大幅提升芯片制造的精度和效率，為未來的半導體技術發(fā)展提供強大的支持。盡管造價高昂，但對于......
新型晶體... 人工智能 云計算機...
2021-09-03
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