原標題：阿斯麥新一代 EUV 光刻機開始制造：造價 1.5 億美元，公共汽車大小

　　阿斯麥（ASML）是全球領先的半導體設備制造商，其EUV（極紫外光）光刻機在芯片制造中扮演著至關重要的角色。近日，阿斯麥宣布已經開始制造新一代的EUV光刻機，這款機器的造價高達1.5億美元，體積相當于一輛公共汽車。

　　這款新一代的EUV光刻機預計將大幅提升芯片制造的精度和效率，為未來的半導體技術發(fā)展提供強大的支持。盡管造價高昂，但對于追求更高性能和更小尺寸芯片的半導體制造商來說，這款機器的投資是必要的。

　　阿斯麥的EUV光刻機采用了一種特殊的光源，能夠產生極紫外光，這種光的波長非常短，可以用來在硅片上刻劃出極其微小的電路圖案。相比傳統(tǒng)的光刻技術，EUV光刻能夠實現更高的分辨率和更精細的圖案，從而制造出更先進的芯片。

　　盡管EUV光刻機的制造成本和維護成本都非常高，但其帶來的性能提升和生產效率的提升，使得它成為高端芯片制造不可或缺的工具。隨著半導體技術的不斷發(fā)展，EUV光刻機的需求也將持續(xù)增長。