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納米壓印微影
納米壓印微影
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微納米尺度圖形結構的快速復制和轉移；具有高分辨率、高產量、低成本的優(yōu)點；可輕易制作3D立體結構之微影刻蝕技術；高分子材料直接壓印成形，避免長時間或大范圍之刻蝕步驟；可簡單的制作出高深寬比的結構。此設備還采用了單面硬襯墊氣壓軟壓技術、IPS技術、STU技術，增加壓力均勻性，延長模板壽命延長，提升圖形分辨率。相關應用包括量子磁碟、生物傳感器微陣列、微流體通道、光子晶體、GaAs量子元件等

不用EUV光刻機也能造5nm芯片？鎧俠攜手NDP與佳能力推NIL技術
不用EUV光刻機也能造5nm芯片？鎧俠攜手NDP與佳能力推NIL技術
是的，不用EUV光刻機也能造5nm芯片，這得益于鎧俠攜手NDP（大日本印刷株式會社）與佳能共同力推的NIL（納米壓印微影）技術。技術背景與優(yōu)勢EUV光刻機問題：在半導體制程技術進入5nm節(jié)點后，EUV光刻機成為了不可或缺的關鍵設備。然而，EUV光刻機造價高昂（每臺價格超過1億美元），且僅荷蘭ASML一家能夠生產供應，產能有限，導致芯片生產......
EUV光... 納米壓印... 手機應用...
2021-10-26
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