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英特爾CEO基辛格:花兩年時間追上臺積電

來源: 中電網(wǎng)
2021-05-07
類別:業(yè)界動態(tài)
eye 6
文章創(chuàng)建人 拍明

原標題:英特爾CEO基辛格:花兩年時間追上臺積電

英特爾CEO基辛格曾表示要花兩年時間追上臺積電,以下是對這一說法的詳細解讀:

一、背景與動機

基辛格在擔任英特爾CEO后,面對全球半導體短缺和英特爾在制造能力上的挑戰(zhàn),提出了追趕臺積電的目標。臺積電作為全球領先的半導體制造企業(yè),在制程工藝和產(chǎn)能方面都具有顯著優(yōu)勢。英特爾希望通過加大投資、優(yōu)化制程工藝和提升產(chǎn)能等方式,縮小與臺積電的差距。

二、追趕計劃

  1. 制程工藝:基辛格在多個場合表示,英特爾將在制程工藝方面加大研發(fā)力度,以追趕并超越臺積電。他提到,英特爾將在未來幾年內(nèi)交付多種新工藝制程,包括Intel 18A等。這些新工藝制程的推出將有助于提升英特爾芯片的性能和能效比。

  2. 產(chǎn)能提升:為了應對全球半導體短缺,英特爾正在調整工廠以提高產(chǎn)量?;粮癖硎?,英特爾將增加對晶圓廠的投資,以提升產(chǎn)能并滿足市場需求。

  3. 晶圓代工業(yè)務:英特爾還推出了IDM 2.0戰(zhàn)略,開始發(fā)展晶圓代工業(yè)務。這一戰(zhàn)略旨在利用英特爾的制造能力為其他芯片設計公司提供代工服務,從而擴大市場份額并提升盈利能力。

三、挑戰(zhàn)與困難

  1. 技術挑戰(zhàn):追趕臺積電需要克服技術上的挑戰(zhàn)。臺積電在制程工藝方面擁有領先的技術和豐富的經(jīng)驗,而英特爾需要投入大量資源和時間進行研發(fā)和創(chuàng)新。

  2. 產(chǎn)能瓶頸:提升產(chǎn)能需要時間和資金的支持。英特爾需要擴大晶圓廠的規(guī)模并增加生產(chǎn)線,以滿足市場需求并提升產(chǎn)能。

  3. 市場競爭:晶圓代工市場競爭激烈,臺積電、聯(lián)電等企業(yè)已經(jīng)占據(jù)了較大的市場份額。英特爾需要與其他競爭對手進行競爭,并贏得客戶的信任和訂單。

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四、進展與成果

盡管基辛格提出了追趕臺積電的目標,但英特爾在追趕過程中也面臨了一些挑戰(zhàn)和困難。例如,在Intel 18A制程的量產(chǎn)準備方面,英特爾曾遭遇了一些挫折。然而,英特爾仍然堅持其追趕計劃,并不斷努力提升制程工藝和產(chǎn)能。

另外,需要注意的是,臺積電與英特爾之間的關系也發(fā)生了一些變化。原本臺積電曾向英特爾提供芯片代工服務,并給予了一定的折扣優(yōu)惠。但隨著英特爾發(fā)展晶圓代工業(yè)務,臺積電取消了這一折扣優(yōu)惠。這一變化可能對英特爾的追趕計劃產(chǎn)生一定的影響。

五、總結與展望

基辛格提出的追趕臺積電的目標體現(xiàn)了英特爾在半導體制造領域的雄心壯志。盡管面臨諸多挑戰(zhàn)和困難,但英特爾仍在不斷努力提升制程工藝和產(chǎn)能,并發(fā)展晶圓代工業(yè)務以擴大市場份額。未來,隨著技術的不斷進步和市場的不斷變化,英特爾能否成功追趕上臺積電并超越其地位仍需拭目以待。

同時,也需要看到半導體行業(yè)的競爭日益激烈,不僅僅是英特爾和臺積電之間的競爭,還包括其他眾多芯片設計公司和制造企業(yè)之間的競爭。因此,英特爾需要不斷創(chuàng)新和進步,以應對未來的挑戰(zhàn)和機遇。


責任編輯:David

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