原標(biāo)題：思銳智能攜旗下Beneq品牌亮相CIOE2021，探索從微觀到宏觀層面的ALD光學(xué)應(yīng)用創(chuàng)新

思銳智能攜旗下Beneq品牌亮相CIOE2021（即第23屆中國(guó)國(guó)際光電博覽會(huì)），并在此平臺(tái)上深入探索了從微觀到宏觀層面的原子層沉積（ALD）光學(xué)應(yīng)用創(chuàng)新。以下是對(duì)該事件的詳細(xì)闡述：

一、事件背景

• 參展方：青島四方思銳智能技術(shù)有限公司（簡(jiǎn)稱思銳智能），攜其全資收購(gòu)的芬蘭Beneq品牌共同參展。

• 展會(huì)名稱：第23屆中國(guó)國(guó)際光電博覽會(huì)（CIOE2021）。

• 展會(huì)時(shí)間：具體年份為2021年（具體日期未提及，但根據(jù)標(biāo)題可推斷）。

二、參展亮點(diǎn)

1. ALD光學(xué)應(yīng)用創(chuàng)新：

• 思銳智能在展會(huì)上分享了ALD設(shè)備的主流產(chǎn)品以及在光學(xué)領(lǐng)域的眾多創(chuàng)新解決方案。ALD技術(shù)以其原子級(jí)精度的特性，在納米結(jié)構(gòu)的微觀層面和任意形態(tài)光學(xué)器件的宏觀層面均展現(xiàn)出卓越的應(yīng)用潛力。

• ALD技術(shù)能夠調(diào)整光學(xué)材料的特性，滿足高精度、高保形性、高致密性和高均勻性的要求，特別是在三維結(jié)構(gòu)部件產(chǎn)品上沉積高保形、高致密、高均勻性的光學(xué)薄膜方面具有獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。

2. 產(chǎn)品展示：

• 思銳智能展示了包括P400A、P800、P1500和C2R在內(nèi)的多款A(yù)LD設(shè)備。這些設(shè)備克服了傳統(tǒng)ALD設(shè)備沉積速率慢、不兼容大尺寸產(chǎn)品、難以大規(guī)模生產(chǎn)的局限，滿足了現(xiàn)代光學(xué)規(guī)模化、高要求的鍍膜產(chǎn)品的生產(chǎn)需要。

• 其中，P系列設(shè)備支持定制反應(yīng)腔的配置選項(xiàng)，適用于各種基底，且反應(yīng)腔易于更換，減少了因維護(hù)造成的停機(jī)時(shí)間。C2R系列則是將空間ALD技術(shù)與等離子技術(shù)結(jié)合的創(chuàng)新產(chǎn)品，實(shí)現(xiàn)了超高速的鍍膜能力。

1. 技術(shù)合作與生態(tài)拓展：

• 思銳智能與浙江大學(xué)光學(xué)與光電子薄膜研究所簽訂了戰(zhàn)略合作協(xié)議，共建聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室，用于技術(shù)開發(fā)和應(yīng)用創(chuàng)新。

• 公司還積極拓展生態(tài)合作版圖，與國(guó)內(nèi)外多家知名企業(yè)達(dá)成合作，共同推動(dòng)ALD技術(shù)在光學(xué)及其他領(lǐng)域的應(yīng)用。

三、市場(chǎng)反響與應(yīng)用前景

• 思銳智能的ALD設(shè)備和技術(shù)在展會(huì)上引起了廣泛關(guān)注，其出色的膜層厚度均勻性、保形性和高性價(jià)比等特點(diǎn)贏得了行業(yè)人士的認(rèn)可。

• 展望未來，隨著光電系統(tǒng)微縮化、基底材料多元化以及各類行業(yè)應(yīng)用的創(chuàng)新迭代，ALD技術(shù)將在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域發(fā)揮更加重要的作用。思銳智能將繼續(xù)以先進(jìn)的ALD技術(shù)為客戶提供一站式解決方案，滿足從研發(fā)、中試線到工業(yè)化量產(chǎn)的全方位鍍膜需求。

綜上所述，思銳智能攜Beneq品牌亮相CIOE2021不僅展示了其在ALD光學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域的創(chuàng)新成果和技術(shù)實(shí)力，還進(jìn)一步拓展了市場(chǎng)合作與生態(tài)版圖，為未來的光學(xué)鍍膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。