中芯國(guó)際在7納米芯片制造上所面臨的困境，可以從多個(gè)方面來(lái)探討其真相。技術(shù)挑戰(zhàn)：光刻機(jī)精度：光刻機(jī)是集成電路制造中的核心設(shè)備，其精度直接影響到芯片制造的精細(xì)程度。目前，世界上80%的光刻機(jī)市場(chǎng)被荷蘭公司占據(jù)，高端光刻機(jī)也被其壟斷。中國(guó)在光刻機(jī)技術(shù)上與國(guó)際先進(jìn)水平存在差距，這是中芯國(guó)際在7納米芯片制造上的一大挑戰(zhàn)。設(shè)計(jì)與制造：雖然中國(guó)已經(jīng)能夠......