單片濕式工藝設(shè)備
單片濕式工藝設(shè)備
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本發(fā)明提供一種單片晶圓濕式處理設(shè)備及處理方法,設(shè)備包括支撐組件,支撐組件包括用于支撐晶圓的支撐部以及設(shè)置在支撐部的邊緣區(qū)域的外圍用于固定晶圓的保持部,支撐部具有邊緣區(qū)域及中間凹陷區(qū)域,支撐部上設(shè)置有能夠在支撐部的上方形成多個(gè)氣體頂針的多個(gè)氣體通道,多個(gè)所述氣體頂針能夠?qū)⒎胖迷谒鲋尾可戏接伤霰3植抗潭ǖ木A托起.并且晶圓下表面完全處于氣體氛圍中這樣在支撐組件高速旋轉(zhuǎn)時(shí),可以避免晶圓的中間區(qū)域凹陷,從而避免造成晶圓的圓環(huán)缺陷.氣體頂針的形成還能夠避免蒸汽在晶圓表面凝結(jié),進(jìn)而避免產(chǎn)生晶圓表面的中心圓形缺陷.本發(fā)明提供的單片晶圓濕式處理方法采用上述處理設(shè)備,同樣具備相同技術(shù)效果.
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