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刻蝕機
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等離子刻蝕機，又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。

光刻機和刻蝕機哪個更重要
光刻機和刻蝕機哪個更重要
光刻機和刻蝕機在芯片制造過程中都扮演著非常重要的角色，它們各自承擔(dān)著不同的任務(wù)，且互為補充。光刻機主要用于將掩膜板上的圖案轉(zhuǎn)移到硅片上，通過優(yōu)化光刻機的光學(xué)系統(tǒng)和控制算法，可以實現(xiàn)更高的分辨率和更精準(zhǔn)的圖案轉(zhuǎn)移。光刻機的作用是將設(shè)計好的芯片圖案投射到光敏感的化學(xué)物質(zhì)上，形成所需的圖案結(jié)構(gòu)，從而制作出芯片中的電路。而刻蝕機則主要用于去除芯片......
光刻機
2024-05-14
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