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計算光刻技術
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近年來,空間光調(diào)制器(SLM)無掩模光刻技術受到微電子及相關領域的廣泛關注.SLM作為無掩模光學光刻系統(tǒng)的圖形發(fā)生器,可便捷,靈活,并行,低成本和高速地產(chǎn)生曝光圖形,在小批量高精度掩模制作和微光學器件生產(chǎn)中發(fā)揮了重要作用,在高分辨集成電路制作上也表現(xiàn)出極其誘人的應用前景

ASML對話青年軟件工程師：半導體發(fā)展需要更多復合型軟件人才
ASML對話青年軟件工程師：半導體發(fā)展需要更多復合型軟件人才
ASML作為全球芯片光刻技術的領導者，在半導體領域的發(fā)展中扮演著重要角色。在與青年軟件工程師的對話中，ASML強調(diào)了半導體發(fā)展需要更多復合型軟件人才的重要性。以下是對這一話題的詳細闡述：一、半導體行業(yè)的人才需求背景行業(yè)增長與人才需求：近年來，受5G、云計算、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、智能網(wǎng)聯(lián)汽車等新型應用的驅(qū)動，中國集成電路市場持續(xù)增長，半導體行......
精度計算 圖像處理 計算光刻...
2021-10-27
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