原標題：SK 海力士 M16 新廠竣工，將首次使用 EUV 光刻機生產(chǎn)

SK海力士M16新廠的竣工標志著該公司在半導體生產(chǎn)領域邁出了重要的一步，特別是其首次引入EUV光刻機進行生產(chǎn)，更是引發(fā)了業(yè)界的廣泛關注。以下是對SK海力士M16新廠竣工及EUV光刻機使用的詳細解析：

一、M16新廠概況

1. 竣工時間：2021年2月1日，SK海力士在韓國京畿道利川總部舉行了M16新廠的竣工儀式。

2. 建設歷程：

• 2018年7月：宣布建設M16新廠計劃。

• 2018年11月：M16新廠開工建設。

• 2020年12月：啟用潔凈室（Clean Room）。

• 2021年2月1日：正式竣工。

3. 投資規(guī)模：總投資額達到3.5萬億韓元（約合31億美元）。

4. 工廠規(guī)模：

• 總面積：5.7萬平方米，相當于8個足球場的大小。

• 長度：335米（另有報道為336米）。

• 寬度：163米。

• 高度：105米，相當于一座37層公寓樓的高度。

• 是SK海力士目前國內(nèi)外生產(chǎn)設施中規(guī)模最大的工廠。

二、EUV光刻機引入

1. 意義：M16新廠首次引入了EUV（Extreme Ultraviolet，極紫外）光刻機，這將顯著提高芯片電路的精細程度，從而提升芯片的性能和產(chǎn)量。

2. 生產(chǎn)計劃：SK海力士計劃從竣工后的某個時間點（具體為2021年下半年，預計6月開始試產(chǎn)，視情況調(diào)整）起，使用EUV光刻機量產(chǎn)第四代1α納米級DRAM產(chǎn)品。

3. 技術領導力：通過引入EUV光刻機，SK海力士將進一步增強其在存儲器半導體相關的先進工程技術領導力。

三、M16新廠的其他特點

1. ESG理念：M16新廠集中了符合ESG（環(huán)境、社會和治理）理念的先進設施，如專門用于EUV設備的車間和最新的污染減排設施。

2. 未來愿景：M16的竣工也意味著SK海力士于2015年宣布的“未來愿景”的提前完成。該愿景旨在掌握在半導體行業(yè)的可持續(xù)領導力，并宣布自2014年起十年內(nèi)在韓國建造包括M14在內(nèi)的3個新廠。隨著M16的竣工，SK海力士成功地提早三年實現(xiàn)了這一目標。

3. 社會價值：SK海力士表示，M16新廠不僅會在未來創(chuàng)造更多的經(jīng)濟價值，還有望成為推進公司ESG管理的高水平生產(chǎn)據(jù)點。

四、市場影響與前景

1. 行業(yè)節(jié)點：SK海力士M16新廠的竣工正好趕上了服務器擴充和全球芯片短缺的節(jié)點，這將有助于緩解芯片供應緊張的局面。

2. 市場需求：SK海力士預計DRAM需求將增長約17%至20%，同時服務器產(chǎn)品的需求也可能增長30%以上。M16新廠的投產(chǎn)將滿足這一市場需求。

3. 競爭態(tài)勢：在SK海力士使用EUV技術后，三大芯片存儲廠商中只剩下美光還未引入EUV光刻機。長期來看，這可能使美光在市場競爭中處于下風。

綜上所述，SK海力士M16新廠的竣工及其首次使用EUV光刻機進行生產(chǎn)，不僅標志著該公司在半導體生產(chǎn)領域取得了重要突破，也為全球芯片市場帶來了新的活力和機遇。