在探測器制造加工工藝中，很多都涉及清洗技術(shù)，如芯片制作期間的基片清洗，外延生長片的清洗，鍍膜加工前基片的清洗，以及濾光片等光學(xué)元件加工的清洗等。隨著科技的發(fā)展，半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)對清潔度的要求越來越高。也不斷有復(fù)雜的新洗凈系統(tǒng)和設(shè)備投入使用。在光學(xué)儀器、精密機(jī)械以及電子機(jī)械領(lǐng)域也越來越多地需要精密工業(yè)清洗。無論是半導(dǎo)體薄膜的生長還是基于半導(dǎo)體薄膜的器件制備，襯底的清洗和處理是必不可少的一個環(huán)節(jié)。