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外光刻機(jī)
外光刻機(jī)
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光刻機(jī)（又稱曝光機(jī)）是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)，世界上只有少數(shù)廠家掌握。光刻機(jī)的作用是掃描曝光芯片晶圓，刻蝕集成電路。精度越高的光刻機(jī)，能生產(chǎn)出納米尺寸更小，功能更強(qiáng)大的芯片。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。