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EUV光刻應(yīng)用
EUV光刻應(yīng)用
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用于高端邏輯半導(dǎo)體量產(chǎn)的EUV（Extreme Ultra-Violet，極紫外線光刻）曝光技術(shù)的未來(lái)藍(lán)圖逐漸“步入”我們的視野，從7nm階段的技術(shù)節(jié)點(diǎn)到今年（2019年，也是從今年開始），每2年~3年一個(gè)階段向新的技術(shù)節(jié)點(diǎn)發(fā)展。