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光刻設(shè)備
光刻設(shè)備
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光刻機的品牌眾多,根據(jù)采用不同技術(shù)路線的可以歸納成如下幾類: 高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種,分辨率通常七納米至幾微米之間,高端光刻機號稱世界上最精密的儀器,世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。高端光刻機堪稱現(xiàn)代光學工業(yè)之花,其制造難度之大,全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國),日本Nikon(intel曾經(jīng)購買過Nikon的高端光刻機)和日本Canon三大品牌為主。 位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機,形成產(chǎn)品系列初步實現(xiàn)海內(nèi)外銷售。正在進行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。