現(xiàn)階段，片式排阻多為厚膜排阻，部分采用薄膜排阻，但厚膜電阻穩(wěn)定性差，而薄膜電阻精度較高、穩(wěn)定性較好，被應(yīng)用在精密設(shè)備上；然而，現(xiàn)階段薄膜排阻元件對光刻掩膜需求較高，要根據(jù)電極、電阻留邊對應(yīng)做出干膜貼合，普通貼膜工藝難以獲得覆蓋全面的濺射圖形，且排阻基片中的通孔也難以通過貼膜方式完整覆蓋?，F(xiàn)有的薄膜排阻由于排阻基片中的通孔設(shè)計，傳統(tǒng)的印刷工藝形成的薄膜濺射掩膜遮蔽層，無法有效覆蓋排阻基片通孔內(nèi)壁，從而造成因掩膜缺失而濺射錯位的情況