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英特爾將為高通代工芯片:計(jì)劃2025年追上臺(tái)積電和三星

來源: 中電網(wǎng)
2021-07-28
類別:業(yè)界動(dòng)態(tài)
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文章創(chuàng)建人 拍明

原標(biāo)題:英特爾將為高通代工芯片:計(jì)劃2025年追上臺(tái)積電和三星

英特爾將為高通代工芯片,并計(jì)劃到2025年追上臺(tái)積電和三星,這一戰(zhàn)略舉措顯示了英特爾在芯片代工領(lǐng)域的雄心壯志。以下是對(duì)該計(jì)劃的詳細(xì)分析:

一、合作背景

  • 英特爾的戰(zhàn)略調(diào)整:近年來,英特爾在芯片制造領(lǐng)域面臨來自臺(tái)積電和三星的激烈競爭。為了重振其芯片制造業(yè)務(wù),英特爾決定擴(kuò)大其代工服務(wù),并制定了詳細(xì)的路線圖以追趕競爭對(duì)手。

  • 高通的選擇:高通作為全球領(lǐng)先的無線科技創(chuàng)新者,選擇英特爾作為其芯片代工伙伴,無疑是對(duì)英特爾技術(shù)實(shí)力和制造能力的認(rèn)可。這一合作不僅有助于高通獲得更穩(wěn)定的芯片供應(yīng),也有助于英特爾拓展其代工業(yè)務(wù)的市場份額。

二、合作內(nèi)容

  • 代工工藝:英特爾將為高通生產(chǎn)的芯片采用20A制程工藝。這是英特爾推出的一種全新制程工藝,標(biāo)志著英特爾在芯片制造技術(shù)上的一次重要突破。20A制程工藝將帶來更高的晶體管集成密度和更小的芯片尺寸,從而提升芯片的性能和能效。

  • 時(shí)間表:雖然英特爾沒有披露具體的產(chǎn)品和上市時(shí)間,但據(jù)媒體報(bào)道,這批采用20A制程的高通芯片預(yù)計(jì)將在2024年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。英特爾的目標(biāo)是在2025年通過這一合作成果,重新奪回芯片制造的領(lǐng)先地位。

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三、未來展望

  • 技術(shù)路線圖:英特爾還公布了未來四年的制程工藝發(fā)展路線圖,包括10納米、7納米、4納米、3納米以及20A等五個(gè)階段。這表明英特爾將繼續(xù)加大在芯片制造技術(shù)上的投入和研發(fā)力度,以縮小與臺(tái)積電和三星的差距。

  • 市場競爭:隨著英特爾代工業(yè)務(wù)的不斷擴(kuò)展和技術(shù)實(shí)力的提升,其有望在未來與臺(tái)積電和三星形成更加激烈的競爭態(tài)勢。這種競爭將推動(dòng)整個(gè)芯片制造行業(yè)的技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)升級(jí)。

  • 潛在影響:英特爾與高通的合作不僅將影響芯片制造市場的競爭格局,還可能對(duì)全球科技產(chǎn)業(yè)的供應(yīng)鏈和生態(tài)系統(tǒng)產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響。例如,這一合作可能促使更多芯片設(shè)計(jì)企業(yè)考慮與英特爾合作,從而改變現(xiàn)有的代工市場格局。

四、挑戰(zhàn)與機(jī)遇

  • 挑戰(zhàn):英特爾在追趕臺(tái)積電和三星的過程中面臨諸多挑戰(zhàn),包括技術(shù)難度、資金投入、市場接受度等。此外,全球半導(dǎo)體市場的復(fù)雜性和不確定性也可能對(duì)英特爾的計(jì)劃產(chǎn)生影響。

  • 機(jī)遇:然而,這一合作也為英特爾帶來了前所未有的機(jī)遇。通過與高通的合作,英特爾可以進(jìn)一步提升其代工業(yè)務(wù)的知名度和影響力,吸引更多潛在客戶。同時(shí),這一合作也有助于英特爾在芯片制造技術(shù)上實(shí)現(xiàn)突破和創(chuàng)新,從而在全球半導(dǎo)體市場中占據(jù)更有利的位置。

綜上所述,英特爾為高通代工芯片并計(jì)劃到2025年追上臺(tái)積電和三星的舉措是其芯片制造業(yè)務(wù)戰(zhàn)略調(diào)整的重要一步。通過這一合作和未來的技術(shù)投入與發(fā)展規(guī)劃,英特爾有望在全球半導(dǎo)體市場中實(shí)現(xiàn)更大的突破和成功。


責(zé)任編輯:David

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