原標(biāo)題：Atonarp宣布推出創(chuàng)新計(jì)量平臺Aston，旨在提高半導(dǎo)體制造工藝的產(chǎn)量、吞吐量和效率

Atonarp宣布推出創(chuàng)新計(jì)量平臺Aston，這一舉措旨在顯著提升半導(dǎo)體制造工藝的產(chǎn)量、吞吐量和效率。以下是關(guān)于Aston平臺的詳細(xì)解析：

一、Aston平臺簡介

• 背景：Atonarp，作為半導(dǎo)體、保健和制藥行業(yè)分子傳感及診斷產(chǎn)品的領(lǐng)先制造商，于2021年7月16日正式宣布推出Aston平臺。該平臺是一個創(chuàng)新型原位半導(dǎo)體計(jì)量平臺，帶有集成等離子體電離源，標(biāo)志著半導(dǎo)體生產(chǎn)計(jì)量領(lǐng)域的一次重大演變。

• 特點(diǎn)：Aston專為半導(dǎo)體生產(chǎn)而設(shè)計(jì)，能夠?qū)崿F(xiàn)原位分子過程控制，使現(xiàn)有工廠運(yùn)行更高效，推動產(chǎn)出提升。它具備高靈敏度和高精確度，能夠準(zhǔn)確提供實(shí)時工藝化學(xué)數(shù)據(jù)，其分子濃度測量靈敏度可達(dá)十億分之一。

二、Aston平臺的主要優(yōu)勢

1. 提升產(chǎn)量和吞吐量：

• Aston在某些應(yīng)用中的單位工藝吞吐量可以提升40%以上，這對于晶圓廠來說是一個顯著的改進(jìn)。對于一家典型的晶圓廠，即使整體產(chǎn)能提高1%，每年的產(chǎn)量也能增加價值數(shù)千萬美元。

• 通過快速、可操作的端點(diǎn)檢測（EPD），Aston能夠準(zhǔn)確檢測一個過程何時結(jié)束，從而優(yōu)化生產(chǎn)流程。例如，在腔室清潔方面，Aston可將所需的清潔時間減少80%。

1. 適應(yīng)惡劣環(huán)境：

• Aston對腐蝕性氣體和氣態(tài)污染物冷凝物具有抵抗力，能夠在半導(dǎo)體生產(chǎn)中出現(xiàn)的惡劣條件下可靠運(yùn)行。這得益于其獨(dú)立的雙電離源設(shè)計(jì)（包括一個經(jīng)典的電子沖擊電離源和一個無燈絲等離子體電離器），使得Aston能夠在傳統(tǒng)電子電離器會迅速腐蝕和失效的環(huán)境中使用。

2. 延長服務(wù)間隔：

• 與傳統(tǒng)質(zhì)量分析儀相比，Aston的服務(wù)間隔時間延長了100倍。它擁有自清潔能力，可以清除某些過程中產(chǎn)生的冷凝物沉積，減少了維護(hù)成本和時間。

3. 實(shí)時數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)分析：

• Aston能夠提供量化、可操作的實(shí)時數(shù)據(jù)，提高過程一致性。同時，它還能通過人工智能推進(jìn)高性能機(jī)器學(xué)習(xí)，滿足最苛刻的過程應(yīng)用需求。

三、Aston平臺的應(yīng)用范圍

Aston平臺主要針對化學(xué)氣相沉積（CVD）和蝕刻應(yīng)用，這兩種應(yīng)用的年增長率均超過13%。它既可以在新腔室組裝時安裝在其中，也能夠加裝在已經(jīng)運(yùn)行的現(xiàn)有腔室中。此外，Aston還可與韓國ATI公司開發(fā)的智能壓力控制器Psi組合使用，提供綜合解決方案。

四、市場反響與未來發(fā)展

• Atonarp已向韓國和美國的領(lǐng)先半導(dǎo)體FAB和設(shè)備制造商交付了Aston平臺，并收到積極反饋。隨著半導(dǎo)體行業(yè)的不斷發(fā)展，Aston平臺有望在未來發(fā)揮更加重要的作用，推動半導(dǎo)體制造工藝的進(jìn)一步升級和優(yōu)化。

綜上所述，Atonarp推出的創(chuàng)新計(jì)量平臺Aston憑借其顯著的優(yōu)勢和廣泛的應(yīng)用范圍，正在逐步改變半導(dǎo)體制造工藝的面貌，為行業(yè)帶來更高的產(chǎn)量、吞吐量和效率。